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Studios Brazilian Acondicionador y el patrón en relieve

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Description

y el patrón en relieve garantiza un agarre antideslizante en el cabello

Base de goma para esmalte de gel

facilitando su respiración y manteniendo la elasticidad

Unnique Advance fue creada específicamente para controlar el cabello rebelde

Champú Post-Coloración

Studios Brazilian Acondicionador y el patrón en relieveGracias a sus componentes y a sus respectivas cualidades, este esmalte en gel est diseado para adaptarse tanto a los principiantes como a los tcnicos avanzados. La hidroxiciclohexil fenil cetona, un revolucionario componente orgnico que cumple con los requisitos normativos, tambin llamado "tecnologa verde" aporta una clara ventaja en el desarrollo de este producto: endurecimiento instantneo con poca energa, resistencia a los araazos y a los productos

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